Photosensitive composition, polymer, resin film, method for producing resin film, and electronic component

WO2014109143 Art A1 17. Juli 2014

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014109143
Aktenzeichen: EP13870660
Anmeldetag: 29. November 2013
Veröffentlichung: 17. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/023C08G65/40C08K5/28C08L71/10G03F7/038H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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