Optical grating phase modulator for laser interference photoetching system

WO2014111000 Art A1 24. Juli 2014

Anmelder: Tsinghua University 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014111000
Aktenzeichen: EP14740296
Anmeldetag: 13. Januar 2014
Veröffentlichung: 24. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G02B26/06G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tsinghua University
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Tsinghua University

Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.

1.696 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von