Sintered compact for fabricating amorphous transparent electroconductive film having low refractive index, and amorphous transparent electroconductive film having low refractive index

WO2014112209 Art A1 24. Juli 2014

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corp. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014112209
Aktenzeichen: EP13871893
Anmeldetag: 26. November 2013
Veröffentlichung: 24. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/453C04B35/00C04B35/553C23C14/08C23C14/24C23C14/34H01B5/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corp.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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