Method for manufacturing mask blank substrate, method for manufacturing mask blank and method for manufacturing transfer mask

WO2014112409 Art A1 24. Juli 2014

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014112409
Aktenzeichen: EP14740377
Anmeldetag: 8. Januar 2014
Veröffentlichung: 24. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/82B01J23/42G03F1/50H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von