Mask blank, phase-shift mask, and method for manufacturing mask blank and phase-shift mask

WO2014112457 Art A1 24. Juli 2014

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014112457
Aktenzeichen: EP14740448
Anmeldetag: 14. Januar 2014
Veröffentlichung: 24. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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