Spray nozzle, spraying processing device, processing method, method for manufacturing cell material, and secondary cell

WO2014112559 Art A1 24. Juli 2014

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014112559
Aktenzeichen: EP14741130
Anmeldetag: 16. Januar 2014
Veröffentlichung: 24. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C24/04B05B7/14C23C4/00H01M4/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von