Apparatus and method for processing sample, and charged particle radiation apparatus

WO2014112628 Art A1 24. Juli 2014

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014112628
Aktenzeichen: EP14740400
Anmeldetag: 20. Januar 2014
Veröffentlichung: 24. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/677H01J37/20H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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