Charge drain coating for electron-optical mems
WO2014113720
Art A1
24. Juli 2014
Anmelder: Kla-Tencor Corporation, Argonne National Laboratory 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014113720
- Aktenzeichen
- EP14740715
- Anmeldetag
- 17. Januar 2014
- Veröffentlichung
- 24. Juli 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Kla-Tencor Corporation
Argonne National Laboratory - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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