Method for determining the phase angle and/or the thickness of a contamination layer at an optical element and euv lithography apparatus

WO2014114382 Art A1 31. Juli 2014

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014114382
Aktenzeichen: EP13799233
Anmeldetag: 19. November 2013
Veröffentlichung: 31. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20B08B7/00G01B11/06G01N21/94G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von