Projection system, mirror and radiation source for a lithographic apparatus

WO2014114405 Art A2 31. Juli 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014114405
Aktenzeichen: EP13802673
Anmeldetag: 12. Dezember 2013
Veröffentlichung: 31. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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