Cvd-Anlage mit Partikelabscheider

WO2014114549 Art A1 31. Juli 2014

Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014114549
Aktenzeichen: EP14701500
Anmeldetag: 16. Januar 2014
Veröffentlichung: 31. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44B01D29/00F01N3/023B01D46/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Aixtron SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von