Method for producing substrate having pattern and resin composition for hydrofluoric acid etching

WO2014115887 Art A1 31. Juli 2014

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014115887
Aktenzeichen: EP14743913
Anmeldetag: 28. Januar 2014
Veröffentlichung: 31. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/035C08F290/06C08G18/69C08G63/40G03F7/027G03F7/032G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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