Method for etching optical waveguide based on focused ion beam

WO2014117674 Art A1 7. August 2014

Anmelder: Northeastern University 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014117674
Aktenzeichen: EP14746283
Anmeldetag: 23. Januar 2014
Veröffentlichung: 7. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G02B6/136

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Northeastern University
Land: 🇨🇳 China

🇺🇸 Northeastern University (Boston)

Northeastern University ist eine private Forschungsuniversität mit Hauptsitz in Boston, USA. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt um Metallurgie und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen sind seit 2002 belegt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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