Verfahren zum Abscheiden einer Schicht mit Hohem Reinheitsgrad auf einem Substrat

WO2014118085 Art A1 7. August 2014

Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014118085
Aktenzeichen: EP14701209
Anmeldetag: 24. Januar 2014
Veröffentlichung: 7. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/24C23C14/30H01L21/02H01L21/78

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Fraunhofer-Gesellschaft

Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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