Surface wave plasma processing device

WO2014118882 Art A1 7. August 2014

Anmelder: Shimadzu Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014118882
Aktenzeichen: EP13873703
Anmeldetag: 29. Januar 2013
Veröffentlichung: 7. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46C23C16/511H01L21/205H01L21/304H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shimadzu Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shimadzu

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Kyoto. Shimadzu entwickelt Analyse- und Messgeräte, medizinische Bildgebungssysteme sowie Komponenten für Luft- und Raumfahrt, Industrie und Wissenschaft.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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