Pattern evaluation device and visual inspection device comprising pattern evaluation device

WO2014119509 Art A1 7. August 2014

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014119509
Aktenzeichen: EP14746149
Anmeldetag: 27. Januar 2014
Veröffentlichung: 7. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/225G01B11/24G01B15/04G01N21/956G06T1/00G06T7/00H01L21/027H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung

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