Photosensitive resin composition, photosensitive element, sandblasting mask material, and surface processing method of object to be processed

WO2014119562 Art A1 7. August 2014

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014119562
Aktenzeichen: EP14745378
Anmeldetag: 28. Januar 2014
Veröffentlichung: 7. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027C08F290/06G03F7/004G03F7/075

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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