Orbitron pump and electron ray device provided with orbitron pump

WO2014119586 Art A1 7. August 2014

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014119586
Aktenzeichen: EP14745708
Anmeldetag: 29. Januar 2014
Veröffentlichung: 7. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/18F04B37/02H01J41/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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