Pattern forming method, compound used therein, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device, and electronic device

WO2014119698 Art A1 7. August 2014

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014119698
Aktenzeichen: EP14745482
Anmeldetag: 24. Januar 2014
Veröffentlichung: 7. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C381/12G03F7/038G03F7/039G03F7/32C07C311/48

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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