Method of fabricating semiconductor devices

WO2014120086 Art A1 7. August 2014

Anmelder: Nanyang Technological University 🇸🇬

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014120086
Aktenzeichen: EP13874137
Anmeldetag: 19. Dezember 2013
Veröffentlichung: 7. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L33/00H01L21/78

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nanyang Technological University
Land: 🇸🇬 Singapur

🇸🇬 Nanyang Technological University

Die Nanyang Technological University ist eine staatliche Forschungsuniversität in Singapur, die in den Bereichen Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologie international hoch angesehen ist.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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