Radiation source for an euv optical lithographic apparatus, and lithographic apparatus comprising such a power source

WO2014121873 Art A1 14. August 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014121873
Aktenzeichen: EP13814092
Anmeldetag: 17. Dezember 2013
Veröffentlichung: 14. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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