Lithographic apparatus and device manufacturing method

WO2014122223 Art A1 14. August 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014122223
Aktenzeichen: EP14703349
Anmeldetag: 6. Februar 2014
Veröffentlichung: 14. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G05B19/19G05B19/404

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik

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