Pattern formation method, active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device

WO2014122852 Art A1 14. August 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014122852
Aktenzeichen: EP13874466
Anmeldetag: 11. Dezember 2013
Veröffentlichung: 14. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/32G03F7/004G03F7/038G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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