Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active light-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, method for producing electronic device, and electronic device

WO2014123105 Art A1 14. August 2014

Anmelder: FUJI-FILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014123105
Aktenzeichen: EP14748656
Anmeldetag: 4. Februar 2014
Veröffentlichung: 14. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJI-FILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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