Anisotropic Deposition in Nanoscale Wires

WO2014123860 Art A2 14. August 2014

Anmelder: President and Fellows of Harvard College 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014123860
Aktenzeichen: EP14749455
Anmeldetag: 4. Februar 2014
Veröffentlichung: 14. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C26/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: President and Fellows of Harvard College
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Harvard University

US-amerikanische Elite-Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts. Harvard betreibt Forschung und Patentierung in zahlreichen Feldern, insbesondere Biotechnologie, Medizin, Life Sciences und Materialwissenschaften.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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