Ald processes for low leakage current and low equivalent oxide thickness bitao films

WO2014124056 Art A1 14. August 2014

Anmelder: Entegris, Inc., ATMI Korea Co. Ltd 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014124056
Aktenzeichen
EP14748729
Anmeldetag
5. Februar 2014
Veröffentlichung
14. August 2014
Rechtsraum
WO
IPC
C23C30/00C23C16/00C23C16/448
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Entegris, Inc.
ATMI Korea Co. Ltd
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

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