Magnetron sputtering magnetic field-generating device

WO2014125889 Art A1 21. August 2014

Anmelder: Hitachi Metals, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014125889
Aktenzeichen: EP14751965
Anmeldetag: 23. Januar 2014
Veröffentlichung: 21. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/35

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Metals, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Proterial

Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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