Method for transferring thin film, method for manufacturing thin film transistor, and method for forming pixel electrode of liquid crystal display device

WO2014126041 Art A1 21. August 2014

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014126041
Aktenzeichen: EP14751371
Anmeldetag: 10. Februar 2014
Veröffentlichung: 21. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02G02F1/1368H01L21/336H01L27/12H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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