Composition for forming barrier layer, semiconductor substrate with barrier layer, method for producing substrate for solar cells, and method for manufacturing solar cell element

WO2014126117 Art A1 21. August 2014

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014126117
Aktenzeichen: EP14751805
Anmeldetag: 12. Februar 2014
Veröffentlichung: 21. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/22H01L31/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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