Method and device for determining photolithography process parameter

WO2014127582 Art A1 28. August 2014

Anmelder: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co., Ltd., BOE Technology Group Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014127582
Aktenzeichen: EP13875376
Anmeldetag: 24. April 2013
Veröffentlichung: 28. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/16G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co., Ltd.
BOE Technology Group Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 BOE Technology

Chinesischer Elektronikkonzern mit Sitz in Peking, entwickelt und fertigt Display-Technologien wie LCD- und OLED-Bildschirme für Endgeräte und Industrieanwendungen.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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