Illumination system for an euv lithography device and facet mirror therefor

WO2014128025 Art A1 28. August 2014

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014128025
Aktenzeichen: EP14704131
Anmeldetag: 11. Februar 2014
Veröffentlichung: 28. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B5/09G02B26/08G02B27/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von