Film-forming method, computer storage medium, and film-forming system

WO2014129259 Art A1 28. August 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014129259
Aktenzeichen: EP14753592
Anmeldetag: 23. Januar 2014
Veröffentlichung: 28. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/312H01L21/31H01L21/321H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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