Pattern-measuring apparatus and semiconductor-measuring system

WO2014129307 Art A1 28. August 2014

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014129307
Aktenzeichen: EP14754275
Anmeldetag: 5. Februar 2014
Veröffentlichung: 28. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01N23/225

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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