Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, and pattern forming method

WO2014129393 Art A1 28. August 2014

Anmelder: FUJI-FILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014129393
Aktenzeichen: EP14753455
Anmeldetag: 14. Februar 2014
Veröffentlichung: 28. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJI-FILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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