Method for manufacturing reflective mask blank, and method for manufacturing reflective mask

WO2014129527 Art A1 28. August 2014

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014129527
Aktenzeichen: EP14754140
Anmeldetag: 20. Februar 2014
Veröffentlichung: 28. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G01N21/956G03F1/24G03F1/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von