Resist Underlayer Film-Forming Composition Containing Aryl Sulfonate Salt Having Hydroxyl Group

WO2014129582 Art A1 28. August 2014

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014129582
Aktenzeichen: EP14754301
Anmeldetag: 21. Februar 2014
Veröffentlichung: 28. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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