Monomer, hardmask composition comprising monomer, and pattern forming method using hardmask composition

WO2014129701 Art A1 28. August 2014

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014129701
Aktenzeichen: EP13875365
Anmeldetag: 8. Mai 2013
Veröffentlichung: 28. August 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C07D407/10G03F7/004C08G59/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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