Heat treatment device and heat treatment method

WO2014132546 Art A1 4. September 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014132546
Aktenzeichen: EP13876494
Anmeldetag: 26. Dezember 2013
Veröffentlichung: 4. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H05B6/78H01L21/20H01L21/268H05B6/64H05B6/72

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von