Pattern formation method, electron-beam-sensitive or extreme-ultraviolet-sensitive resin composition and resist film using same, method for manufacturing electronic device, and electronic device

WO2014132703 Art A1 4. September 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014132703
Aktenzeichen: EP14756550
Anmeldetag: 20. Januar 2014
Veröffentlichung: 4. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C08F12/04C08F20/30C08F20/58G03F7/039G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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