Orbitron pump and electron beam device using orbitron pump
WO2014132758
Art A1
4. September 2014
Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014132758
- Aktenzeichen
- EP14757552
- Anmeldetag
- 5. Februar 2014
- Veröffentlichung
- 4. September 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/18F04B37/02H01J41/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi High-Technologies Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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