Substrate treatment apparatus, method for positioning mask, apparatus for forming film, and method for forming film

WO2014132831 Art A1 4. September 2014

Anmelder: Toray Engineering Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014132831
Aktenzeichen
EP14757152
Anmeldetag
18. Februar 2014
Veröffentlichung
4. September 2014
Rechtsraum
WO
IPC
B05B5/08B05B15/04B05D1/32H01L51/50H05B33/10
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Toray Engineering Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toray Engineering

Toray Engineering ist eine japanische Tochtergesellschaft des Toray-Konzerns und stellt Fertigungsanlagen für Halbleiter- und Displayproduktion her. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Verfahrens- und Trenntechnik, ergänzt um Elektronik. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2025.

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