Niobium oxide sputtering target, production method therefor, and niobium oxide film

WO2014132872 Art A1 4. September 2014

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014132872
Aktenzeichen: EP14757054
Anmeldetag: 20. Februar 2014
Veröffentlichung: 4. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/00C23C14/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von