Radioactive-ray-sensitive resin composition, resist-pattern formation method, and polymer

WO2014133048 Art A1 4. September 2014

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014133048
Aktenzeichen: EP14757665
Anmeldetag: 26. Februar 2014
Veröffentlichung: 4. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F212/14C08F220/16C08F222/40C08F232/08H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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