Photosensitive oligomer for photoresist, preparation method therefor and negative photoresist composition thereof

WO2014134881 Art A1 12. September 2014

Anmelder: BOE Technology Group Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014134881
Aktenzeichen: EP13876843
Anmeldetag: 3. Juni 2013
Veröffentlichung: 12. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C08F220/06C08F220/10C08F212/08C08F8/14C08F8/42G03F7/004G02B5/23

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: BOE Technology Group Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 BOE Technology

Chinesischer Elektronikkonzern mit Sitz in Peking, entwickelt und fertigt Display-Technologien wie LCD- und OLED-Bildschirme für Endgeräte und Industrieanwendungen.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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