Oxide layer and production method for oxide layer, as well as capacitor, semiconductor device, and microelectromechanical system provided with oxide layer
WO2014136463
Art A1
12. September 2014
Anmelder: Japan Science and Technology Agency 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014136463
- Aktenzeichen
- EP14760510
- Anmeldetag
- 6. Januar 2014
- Veröffentlichung
- 12. September 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01G4/33H01G4/12H01L21/316H01L21/336H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Japan Science and Technology Agency
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Japan Science and Technology Agency
Japanische staatliche Förderorganisation für Wissenschaft und Technologie, die Forschungsprojekte finanziert und den Technologietransfer zwischen Universitäten und Industrie unterstützt. Die Behörde untersteht dem japanischen Bildungsministerium.
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