Copper Alloy Sputtering Target
WO2014136673
Art A1
12. September 2014
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014136673
- Aktenzeichen
- EP14760384
- Anmeldetag
- 28. Februar 2014
- Veröffentlichung
- 12. September 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C22C9/01C22C9/05C22F1/08C22F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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