Titanium target for sputtering and manufacturing method thereof

WO2014136702 Art A1 12. September 2014

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014136702
Aktenzeichen: EP14760435
Anmeldetag: 3. März 2014
Veröffentlichung: 12. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C14/00C22F1/18C22F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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