Systems and methods for production of graphene by plasma-enhanced chemical vapor deposition

WO2014137985 Art A1 12. September 2014

Anmelder: Lockheed Martin Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014137985
Aktenzeichen: EP14761221
Anmeldetag: 4. März 2014
Veröffentlichung: 12. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lockheed Martin Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lockheed Martin

US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Rüstungskonzern mit Sitz in Maryland, tätig in Entwicklung von Kampfflugzeugen, Raketensystemen, Satelliten und Verteidigungstechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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