Methods for providing spaced lithography features on a substrate by self-assembly of block copolymers

WO2014139795 Art A1 18. September 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014139795
Aktenzeichen: EP14706616
Anmeldetag: 26. Februar 2014
Veröffentlichung: 18. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: B81C1/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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