Film formation method, method for manufacturing semiconductor light-emitting element, semiconductor light-emitting element, and lighting apparatus

WO2014141601 Art A1 18. September 2014

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014141601
Aktenzeichen: EP14765757
Anmeldetag: 26. Februar 2014
Veröffentlichung: 18. September 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/203C23C14/06H01L21/205H01L33/32C23C16/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Anelva Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

421 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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